Semiconductor - Lớp H - yêu cầu chùm tia:
Kiểm soát hạt:
Điện tử H - dầm (316L) với độ nhám bề mặt<0.2μm prevent particle generation in Taiwan's TSMC 5nm fabs, meeting SEMI F20 Class 1.
Sự cô lập rung động:
H - dầm được gắn trên bộ giảm chấn áp điện hoạt động đạt được<10 nm/s² acceleration in ASML's EUV lithography rooms, used in Netherlands' Brainport region.
Tuân thủ phòng sạch:
H - dầm với các mối hàn bị thụ động (ASTM A262 thực hành E) chống ăn mòn từ các hóa chất bán dẫn, được chứng nhận cho fabs pyeongtaek của Samsung.